中共繞道找日企開發晶片設備 分析:困難重重

經濟 雅婷 6天前 35次浏览

中共繞道找日企開發晶片設備 分析:困難重重

近日有消息說,中共為避開美國的制裁和荷蘭廠家的脫鉤,計劃投資兩家日本企業,生產晶片設備。分析認為,大陸企業在自身晶片技術落後的情況下,短期內很難與外企合作研發光刻機。

《日經新聞》引述業界知情人士的消息說,在得不到荷蘭阿斯麥爾公司(ASML)極紫外(EUV)光刻機的情況下,大陸企業計劃繞道投資日本尼康(Nikon)和佳能(Canon)兩家公司,研發EUV光刻機之外的其它光刻設備。

目前,全球EUV光刻機領域只有荷蘭ASML一家公司具備生產能力。荷蘭政府今年1月份根據瓦森納國際協議,叫停ASML向大陸出口EUV光刻機。

報導引述分析表示,全球最大晶片代工廠台積電從7奈米加強版晶片才開始使用EUV光刻機,但過程中,台積電與ASML經過了10年以上的合作與協調才能成功導入EUV,中國(中共)砸錢與日企合作研發光刻機,短期內困難重重。

據悉,目前大陸的最高晶片技術是14奈米製程。

分析認為,至於半導體生產中關鍵的軟體部分,有國際電子設計自動化(EDA)大廠指出,EDA的關鍵不在於半導體生產的相關參數,而在於其中都有專利布局的各項算法,這方面大陸廠商很難突破。

今年9月15日,美國政府啟動了對華為的晶片禁令,因華為具有中共軍方背景並且偷竊商業和個人資料,禁令要求全球使用美國技術和設備的企業在向華為供貨前,必須得到美國政府的許可。

中共高調稱要在未來5年內投資9.5萬億自主研發晶片,自主生產晶片設備。

9月末曾有署名為ASML公司華裔工程師的人士發文表示,大陸企業無法生產用於製造光刻機的基礎器件,沒有基礎器件,說造光刻機就是天方夜譚;台積電是使用光刻機,而大陸半導體企業與台積電的差距非常大,談不上製造光刻機。

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