大陸官方全力發展半導體，除給予資金支持，也將加速完善配套法規。陸國家知識產權局局長申長雨昨（24）日在北京舉行記者會表示，為適應大規模集成電路發展需要，幫助晶片產業做大做強，將修改完善《集成電路布圖設計保護條例》。外界分析，可能針對保護期限、設計權限制等進行調整。
據了解，該條例第12條規定，布圖設計專有權的保護期為十年，自布圖設計登記申請之日或者在世界任何地方首次投入商業利用之日起計算，以較前日期為準，但是，無論是否登記或者投入商業利用，布圖設計自創作完成之日起15年後，不再受本條例保護。
目前尚不確定大陸官方的修法內容，分析認為，大陸修法方向會朝有利大陸半導體企業發展，尤其專有權保護期的調整，可能讓大陸業者更容易進入，受到外界關注。
現有專利法、版權法對集成電路布圖設計沒辦法給予有效保護。目前全球許多國家通過單獨立法，確認布圖設計的專有權，來給予相關智財權保護。
世界智財權組織在1989年5月通過《關於集成電路的知識產權條約》。而大陸在這一塊的立法相對晚，大陸國務院到2001年3月28日才通過《集成電路布圖設計保護條例》，於2001年10月1日生效。且根據《集成電路布圖設計保護條例》，制定《集成電路布圖設計保護條例實施細則》，同樣自2001年10月1日起施行。而這套法規截至目前，已有20多年未修。
也因此，大陸國家知識產權局副局長，同時也是大陸全國政協常委的何志敏在今年3月兩會上提議，由於西方國家打壓，企圖遏制大陸數位經濟發展，大陸2001年頒布實施的相關法規已20多年，不適應全球晶片產業發生的巨大變化。
何志敏當時表示，為解決晶片領域「卡脖子」問題，更好發揮集成電路布圖設計專有權保護對於促進晶片產業發展的重要作用，國家知識產權局啟動《集成電路布圖設計保護條例》全面修改，預計2023年能夠形成修改徵求意見稿。
國家知識產權局在會上也表示，為服務數位經濟更好發展。加強大數據、人工智慧、基因技術等新領域新業態知識產權規則研究，助力相關領域創新發展。
華客新聞 | 真實新聞與歷史：陸挺半導體 要擴大保護網