財聯社11月26日電，當地時間周五（11月25日），荷蘭外貿與發展合作大臣莉謝·施賴納馬赫爾表示，荷蘭正與美國政府就關於向中國出口光刻機的新限製進行談判。
自2018年以來，在美國的壓力之下，荷蘭政府一直禁止阿斯麥向中國出口其最先進的極紫外線光刻機（EUV），但仍可以銷售上一代的深紫外線光刻機（DUV）。然而，美國希望進一步打壓中國芯片行業，將DUV也納入禁售範圍。
施賴納馬赫爾稱：“我們正與美國進行談判，顯然他們已經宣布了單方麵措施。我無法評論荷蘭將接受什麽，我們在權衡自己的利益，我們的公司已經受到（以前的）出口限製的損害。”